足印角及C-S指数与足内侧纵弓的相关性研究
作者：首都医科大学附属北京同仁医院足踝外科矫形中心包贝西等 来源：2012COA大会论文汇编 日期：2013-01-21
导读
足印角和C-S指数是测量和评价内侧纵弓的可靠指标；足印图测量结果有助于扁平足的早期诊断和分级，并指导扁平足的二级预防。
目的：研究足印角及C-S指数与足内侧纵弓的相关性，探讨应用足印角及C-S指数诊断扁平足的可行性。
方法：选取162名受试者的双足负重正侧位X线片和Harris Mat足印图。负重侧位X线图像上测量距骨第一跖骨角，跟骨倾斜角，距骨倾斜角和距骨跟骨角。Harris Mat足印图测量足印角及C-S指数。根据距骨第一跖骨角将研究对象分为：正常足弓组，轻度扁平足组，中度扁平足组和重度扁平足组，将内侧纵弓各测量结果与其对应的足印角和C-S指数进行差异性及相关性分析。
结果：足印角随着扁平足严重程度的增加而减小，且组间比较有统计学差异；C-S指数随着扁平足严重程度的增加而增大，且组间比较有统计学差异。距骨第一跖骨角与足印角呈负相关关系，左足的相关系数为-0.646，右足的相关系数为-0.752，距骨第一跖骨角与C-S指数呈正相关关系，左足的相关系数为0.514，右足的相关系数为0.575。内侧纵弓与足印角及C-S指数呈显著性相关。
结论：足印角和C-S指数是测量和评价内侧纵弓的可靠指标；足印图测量结果有助于扁平足的早期诊断和分级，并指导扁平足的二级预防。
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